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二氧化(hua)硅(gui)研磨球采用(yong)二氧化(hua)硅(gui)石(shi)經切割、打(da)磨和(he)拋(pao)光等工藝制成(cheng)。形狀有球型2、研磨前,清(qing)洗瑪瑙珠和(he)研磨機筒(tong)內壁;3、先把需研磨的物料(liao)裝入(ru)研磨機筒(tong)。

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二氧(yang)化(hua)硅研(yan)磨(mo)球采用二氧(yang)化(hua)硅石經切割、打磨(mo)和拋光等工藝(yi)制成。形狀(zhuang)有(you)球3、先把(ba)需研(yan)磨(mo)的(de)(de)物(wu)料裝入研(yan)磨(mo)機(ji)筒內(nei),然(ran)后放入適量的(de)(de)瑪瑙珠。研(yan)磨(mo)機(ji)運行后,。

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2013年9月30日(ri)-禾川(chuan)化(hua)工專業從事(shi)二氧化(hua)硅研磨液成(cheng)分分析配方分析,成(cheng)分分析,配方研制,為研磨禾川(chuan)技術以蘇州大(da)(da)學(xue)(xue)為產學(xue)(xue)研基地,融合了中科院有機所(suo)、應(ying)化(hua)所(suo)、浙江大(da)(da)學(xue)(xue)。

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新(xin)型CMP用(yong)二氧化硅研(yan)(yan)(yan)磨料娟劉玉嶺張建新(xin)摘要(yao):介(jie)紹化學機械拋光技術的重要(yao)性(xing),找(zhao)出影響其性(xing)能的關鍵因(yin)素即(ji)為研(yan)(yan)(yan)磨料。然后對(dui)常(chang)用(yong)的研(yan)(yan)(yan)磨料種類(lei)做概(gai)要(yao)論述(shu),。

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2013年8月5日-納(na)米二氧(yang)化硅拋(pao)光(guang)液VK-SP30F又稱研磨膏,切削液,拋(pao)光(guang)漿,TEM下(xia)顯(xian)示50nm方形不規(gui)則(ze)片狀,表明切削力強;ICP滴定結(jie)果顯(xian)示純度(du)(du)99.9%,純度(du)(du)高于國內同類產品,。

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[圖文]炭黑顏(yan)料(liao)研(yan)磨(mo)機高效顏(yan)料(liao)研(yan)磨(mo)機工作(zuo)(zuo)原理:錐體磨(mo)(膠體磨(mo))是由電動(dong)(dong)機通過(guo)皮帶傳動(dong)(dong)帶動(dong)(dong)轉齒(chi)(或(huo)稱為(wei)轉子)與相配的定齒(chi)(或(huo)稱為(wei)定子)作(zuo)(zuo)相對的高速旋(xuan)轉,被加工物料(liao)通過(guo)。

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新型CMP用二氧化硅研磨料-《半導體技術》2005年08期

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蘭州瑞德集(ji)團(原蘭新集(ji)團)是(shi)甘肅(su)省大型骨(gu)干企業(ye)(ye)集(ji)團,是(shi)信息產業(ye)(ye)部(bu)電子專用設備14家骨(gu)干企業(ye)(ye)之一,是(shi)鐵道部(bu)通信產品定點生(sheng)產企業(ye)(ye)。公(gong)司(si)享有獨立的進出(chu)口經營自(zi)主權,并。

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