化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
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芯(xin)片(pian)(pian)制(zhi)(zhi)造(zao)化(hua)學(xue)機械研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)廢(fei)水處(chu)理(li)回(hui)用摘要:化(hua)學(xue)機械研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)廢(fei)水產生量大(da)但總體污染(ran)物(wu)濃度不高,回(hui)用潛力(li)巨大(da),其處(chu)理(li)及回(hui)用技術是芯(xin)片(pian)(pian)制(zhi)(zhi)造(zao)企業的研(yan)(yan)(yan)究。文章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔形”TEM樣(yang)品的機械研(yan)磨制備(bei)技術張啟華,趙燕(yan)麗,高強(qiang),李(li)明,牛崇實(shi),簡維廷(ting)(中芯國際集成電路制造(zao)有限公司(si),上海201203)摘要:介紹了一(yi)種用機械。
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本發明提供了(le)一(yi)種化(hua)學(xue)機械(xie)研磨的方法,包括下列步(bu)驟:提供半導體(ti)襯底(di),所(suo)述半導體(ti)襯底(di)上具有(you)介質層(ceng),所(suo)述介質層(ceng)內包含通(tong)孔(kong)和/或(huo)溝槽(cao);在介質層(ceng)上及通(tong)孔(kong)和/或(huo)溝槽(cao)的。
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英特爾(er)半導體(大(da)連(lian))有限公司招聘化學機(ji)械(xie)研磨液技(ji)術員(yuan)(yuan),發布時間:2010年(nian)04月09日(ri),職(zhi)位(wei)類別:全職(zhi),工(gong)作地區:大(da)連(lian),職(zhi)位(wei)描述:化學機(ji)械(xie)研磨液技(ji)術員(yuan)(yuan)工(gong)作要求:?輔(fu)助工(gong)程師。
一種化學機械研磨的方法_百度搜索
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本(ben)實用新型(xing)涉及一(yi)種化學(xue)機械(xie)研磨(mo)設備,包括:研磨(mo)臺支架;少(shao)兩個研磨(mo)臺,由(you)下(xia)上分層設置(zhi)于所述研磨(mo)臺支架中,每一(yi)所述研磨(mo)臺上表面(mian)設置(zhi)有研磨(mo)墊,下(xia)表面(mian)設置(zhi)有支撐。
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2012年1月18日-什么是(shi)研(yan)磨加(jia)工(gong)?發布(bu)時間:2013-01-18來源:機械專(zhuan)家網利用涂敷(fu)或壓嵌在研(yan)具上的磨料顆粒,通(tong)過研(yan)具與工(gong)件在一定(ding)壓力。
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先進銅化學機械研磨技術半導體工藝突破65nm節點-測試與測量-
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