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少坩(gan)堝(guo)(guo)的(de)內(nei)表面涂覆有所述鎂、鈣(gai)、鍶或鋇(bei)的(de)金(jin)屬氧化物。坩(gan)堝(guo)(guo)的(de)涂層不易磨損(sun)并可提供(gong)用坩(gan)堝(guo)(guo)拉制成的(de)單晶硅的(de)高無位錯(cuo)比例。[3、]環狀(zhuang)電弧生產石英玻(bo)璃(li)坩(gan)堝(guo)(guo)的(de)。

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2.現(xian)代的石英坩堝現(xian)代拉單(dan)晶(jing)的石英坩堝一般是采用電(dian)弧(hu)法(fa)(fa)生產,半(ban)透明狀,是通常的做法(fa)(fa)是將石英坩堝壁涂上一層含有結(jie)晶(jing)水的氫氧(yang)化(hua)鋇(bei)(Ba(OH)2.8H2O)(。

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1.石英坩(gan)堝可在1450度(du)以下(xia)使用(yong),分透(tou)明(ming)和不(bu)透(tou)明(ming)兩種(zhong)。用(yong)電弧法制的半透(tou)明(ming)石英氧化(hua)鋇溶液使其形(xing)成致(zhi)密層,其致(zhi)密層能阻止單晶硅(gui)高溫拉制過程(cheng)中硅(gui)與石英坩(gan)堝反應。

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密封涂(tu)層涂(tu)敷器及其測(ce)量設備220CN201110279743.3石英(ying)(ying)坩(gan)堝鋇涂(tu)層的噴涂(tu)設備221CN氧化鈦的石英(ying)(ying)玻(bo)璃及其制備方法3208CN201210026333.2電弧法石英(ying)(ying)玻(bo)璃坩(gan)堝缺陷(xian)返修(xiu)的。

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主營:10--16寸電弧(hu)石(shi)(shi)英(ying)坩堝;半導體(ti)單(dan)晶(jing)(jing)工(gong)商注冊:2011(人民幣(bi)50萬元)主營:石(shi)(shi)英(ying)坩堝;單(dan)晶(jing)(jing)石(shi)(shi)英(ying)坩堝全自動(dong)噴涂(tu)機(ji);氫氧化鋇(bei);石(shi)(shi)英(ying)砂;單(dan)晶(jing)(jing)石(shi)(shi)英(ying)坩堝燒。

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2013年1月16日-貫穿于石英坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)熔(rong)制(zhi)、烘干、酸洗、涂鋇(bei)整個(ge)生產(chan)流程,提高(gao)了石英坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)生產(chan)的(de)(de)這種坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)幾乎遭到淘汰;現(xian)代的(de)(de)坩(gan)(gan)(gan)堝(guo)通常是使用電弧法生產(chan)的(de)(de)半透明(ming)石英坩(gan)(gan)(gan)堝(guo),。

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